超纯水抛光树脂MB-106UP,超纯水出水18.2兆抛光树脂
Tulsimer MB-106 UP 为高阶核子级抛光树脂, 是由核子级强酸型阳离子Tulsimer T-46Li 及核子级强碱型阴离子 Tulsimer A-33OH 以1:2 体积比的剂量比例 , 预先混合的混床级离子交换树脂,提供给超纯水系统抛光用,具有高的交换容量及优越的物理特性。适合用于电子产业 ,生产半导体及映像管产业,实验室,激光,高精仪器,医用行业等需要超纯水的行业,以及核电厂等使用。
在我们有数十家 核电厂使用我们的抛光树脂。
在我们有数十家 核电厂使用我们的抛光树脂。
高纯水应用行业:
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用*纯水;
2、高纯材料和高纯化学试剂勾兑用*纯水;
3、实验室和中试车间用*纯水;
4、汽车、家电表面抛光处理;
5、电厂化学水处理;
5、光电子产品;
6、制药工业、医疗行业工艺用水;
7、其他高科技精微产品。
架构:交联聚苯乙烯
特点:核子级强酸型阳 及核子级强碱型阴 以1:1.5 体积比预先混合的混床级离子交换树脂,*于高纯水系统抛光
适用于:电子产业,半导体、映像管、激光、医疗、镜头和电路板等行业
交换容量:T-46 1.8 meq/ml A-33 1.0 meq/ml
粒度:0.3-1.2mm 粒径分布:16-50
PH范围:0-14 0.1μS/cm=10MΩ·cm
大温度:80℃
出水电阻率:EDI出水进水可达17.5MΩ·cm
产水量:60-80吨/升
不能再生,一次性
一般用于*纯水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型,装填后即可使用无需再生。一般用于半导体行业。
常规工艺设计:
预处理→紫外线杀菌装置→一级RO装置→二级RO装置→中间水箱→EDI装置→脱氧装置→氮封纯水箱→除TOC UV装置→抛光混床→*滤装置→
1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用*纯水;
2、高纯材料和高纯化学试剂勾兑用*纯水;
3、实验室和中试车间用*纯水;
4、汽车、家电表面抛光处理;
5、电厂化学水处理;
5、光电子产品;
6、制药工业、医疗行业工艺用水;
7、其他高科技精微产品。
架构:交联聚苯乙烯
特点:核子级强酸型阳 及核子级强碱型阴 以1:1.5 体积比预先混合的混床级离子交换树脂,*于高纯水系统抛光
适用于:电子产业,半导体、映像管、激光、医疗、镜头和电路板等行业
交换容量:T-46 1.8 meq/ml A-33 1.0 meq/ml
粒度:0.3-1.2mm 粒径分布:16-50
PH范围:0-14 0.1μS/cm=10MΩ·cm
大温度:80℃
出水电阻率:EDI出水进水可达17.5MΩ·cm
产水量:60-80吨/升
不能再生,一次性
一般用于*纯水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型,装填后即可使用无需再生。一般用于半导体行业。
常规工艺设计:
预处理→紫外线杀菌装置→一级RO装置→二级RO装置→中间水箱→EDI装置→脱氧装置→氮封纯水箱→除TOC UV装置→抛光混床→*滤装置→
半导体材料制备超纯水系统 超纯水设备