脉冲磁控溅射一般使用矩形波电压,这不仅是因为用现有的电子器件采用开关工作方式可以方便地获得矩形波电压波形,而且矩形波电压波形有利于研究溅射放电等离子体的变化过程。图1为用于脉冲溅射的矩形波电压波形,脉冲周期为T,每个周期中靶被溅射的时间为T-ΔT,ΔT为加到靶上的正脉冲时间 (宽度) 。V和V分别为加到靶上的负脉冲与正脉冲的电压幅值。为了保持较高的溅射速率,正脉冲的持续时间ΔT要远小于脉冲周期T。
脉冲磁控溅射一般使用矩形波电压,这不仅是因为用现有的电子器件采用开关工作方式可以方便地获得矩形波电压波形,而且矩形波电压波形有利于研究溅射放电等离子体的变化过程。图1为用于脉冲溅射的矩形波电压波形,脉冲周期为T,每个周期中靶被溅射的时间为T-ΔT,ΔT为加到靶上的正脉冲时间 (宽度) 。V和V分别为加到靶上的负脉冲与正脉冲的电压幅值。为了保持较高的溅射速率,正脉冲的持续时间ΔT要远小于脉冲周期T。